Layout-Designs (Topographies) of Integrated Circuits
集成电路布图设计保护条例 (2001)
Submitted by Zhong Yi on Sat, 01/03/2009 - 10:13中华人民共和国国务院令 (第300号)
《集成电路布图设计保护条例》已经2001年3月28日国务院第36次常务会议通过,现予公布,自2001年10月1日起施行。
集成电路知识产权条约(华盛顿条约)(中国加入)
Submitted by Zhong Yi on Thu, 01/01/2009 - 15:55Adopted at Washington, on May 26, 1989
第一条 联盟的建立
缔约各方组成本条约的联盟。
第二条 定义
在本条约中:
(1)“集成电路”是指一种产品,在它的最终形态或中间形态,是将多个元件,其中至少有一个是有源元件,和部分或全部互连集成在一块材料之中和/或之上,以执行某种电子功能。
(2)“布图设计(拓朴图)”是指集成电路中多个元件,其中至少有一个是有源元件,和其部分或全部集成电路互连的三维配置,或者是指为集成电路的制造而准备的这样的三维配置。
(3)“权利持有人”是指根据适用的法律被认为是第六条所述保护的受益人的自然人或者法人。
(4)“受保护的布图设计(拓朴图)”是指符合本条约保护条件的布图设计(拓朴图)。
(5)“缔约方”是指参加本条约的国家或符合第(10)项要求的政府间组织。
(6)“缔约方的领土”,当缔约方是国家时,指该国的领土;当缔约方是政府间组织时,指该政府间组织的构成条约所适用的领土。
(7)“联盟”是指第一条所述的联盟。
(8)“大会”是指第九条所述的大会。
(9)“总干事”是指世界知识产权组织总干事。

